关于FR-Ⅲ矫正器,叙述正确的是
A: 工作模修整时,前庭沟加深的部位在上颌
B: 铺缓冲蜡时,至下唇挡外约5mm
C: 工作模修整时,前庭沟加深的部位在下颌
D: 唇挡截面呈泪滴状,下缘厚上缘薄
E: 在上前牙近牙龈1/3处刻出1mm的深线,以利唇弓贴合
A: 工作模修整时,前庭沟加深的部位在上颌
B: 铺缓冲蜡时,至下唇挡外约5mm
C: 工作模修整时,前庭沟加深的部位在下颌
D: 唇挡截面呈泪滴状,下缘厚上缘薄
E: 在上前牙近牙龈1/3处刻出1mm的深线,以利唇弓贴合
举一反三
- 关于FR–Ⅲ矫正器的叙述不正确的是（）。 A: 颊屏的上颌部分与齿槽间有3mm的间隙 B: 唇挡截面呈泪滴壮，上缘厚下缘薄 C: 唇挡下缘在龈上至少7.5mm D: 下唇挡是为了消除下唇对下颌的压力 E: 唇挡和颊屏的厚度不超过2.5mm
- 关于FR–Ⅲ矫正器的叙述不正确的是（）。 A: A颊屏的上颌部分与齿槽间有3mm的间隙 B: B唇挡截面呈泪滴壮，上缘厚下缘薄 C: C唇挡下缘在龈上至少7.5mm D: D下唇挡是为了消除下唇对下颌的压力 E: E唇挡和颊屏的厚度不超过2.5mm
- 关于FR-Ⅲ，叙述正确的是（） A: 适用于安氏Ⅲ错合 B: 唇挡放在下颌前庭沟处 C: 唇弓与下切牙相接触 D: 应放上颌支托防止下牙伸长 E: 颊屏在上颌要与牙槽接触
- 关于FR-Ⅲ，叙述正确的是（） A: A适用于安氏Ⅲ错合 B: B唇挡放在下颌前庭沟处 C: C唇弓与下切牙相接触 D: D应放上颌支托防止下牙伸长 E: E颊屏在上颌要与牙槽接触
- 口腔软组织的处理包括（） A: 唇舌系带的矫正术 B: 瘢痕切除修整术 C: 松动软组织切除修整术 D: 前庭沟加深术 E: 以上都对