选磨的目的是（）
A: 消除正中早接触
B: 消除侧向干扰
C: 消除前伸干扰
D: 降低垂直距离
E: 达到平衡
A: 消除正中早接触
B: 消除侧向干扰
C: 消除前伸干扰
D: 降低垂直距离
E: 达到平衡
E
举一反三
- 选磨的目的是（） A: 消除正中牙合早接触 B: 消除侧向牙合干扰 C: 消除前伸牙合干扰 D: 降低垂直距离 E: 达到平衡牙合
- 选磨的目的是（） A: A消除正中牙合早接触 B: B消除侧向牙合干扰 C: C消除前伸牙合干扰 D: D降低垂直距离 E: E达到平衡牙合
- 在火焰法测定时加入高浓度钾盐的目的是()。 A: 消除电离干扰 B: 消除光学干扰 C: 消除背景干扰 D: 消除物理干扰
- 下列不是异常接触关系的是（） A: 早接触 B: 开 C: 前伸干扰 D: 干扰 E: 非工作侧干扰
- 全口义齿选磨的方法错误的是（） A: 选磨正中#$IMG0$#的早接触 B: 选磨侧方#$IMG0$#的#$IMG0$#干扰 C: 保持垂直距离 D: 选磨时双#$IMG0$#同时调磨，最终达到平衡 E: 在保持美观的前提下上牙的舌侧面也可以调磨
内容
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仪器分析中做空白实验的目的是（） A: 消除基体干扰 B: 消除试剂干扰 C: 消除干扰物干扰 D: 都不对
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采用非水溶液滴定法测定盐酸麻黄碱,加入醋酸汞是为了( ) A: 消除麻黄碱干扰 B: 消除氢卤酸干扰 C: 消除氮原子干扰 D: 消除高氯酸干扰 E: 消除氯离子干扰
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选磨的基本原则是（）。 A: 前伸有早接触时，磨改下前牙切缘 B: 前伸及正中有早接触时，磨改上前牙斜面 C: 正中早接触，侧向有干扰 D: 用咬合纸检查咬合，凡蓝色较深者应磨改 E: 先检查并磨改正中高点，再检查磨改非正中高点
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采用非水溶液滴定法测定盐酸麻黄碱含量，加入醋酸汞的目的是 未知类型：{'options': ['消除伪麻黄碱的干扰', '消除氢卤酸干扰', '消除氮原子干扰', '消除高氯酸干扰', '消除汞盐干扰'], 'type': 102}
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采用非水溶液滴定法测定盐酸麻黄碱，加入醋酸是（） A: 消除麻黄碱干扰 B: 消除氢卤酸干扰 C: 消除氮原子干扰 D: 消除高氯酸干扰