氢氧化铁胶体稳定存在的主要原因是（ ）
A: 胶粒带正电荷
B: 胶粒直径小于1nm
C: 胶粒作布朗运动
D: 胶粒不能通过半透膜
A: 胶粒带正电荷
B: 胶粒直径小于1nm
C: 胶粒作布朗运动
D: 胶粒不能通过半透膜
A
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举一反三
内容
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溶胶稳定的原因是( ) A: 胶粒带电 B: 胶粒布朗运动 C: 丁达尔现象 D: 胶粒表面水化膜的存在 E: 电渗
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溶胶稳定的主要因素是() A: 胶粒带同性电荷 B: 胶粒具有布朗运动 C: 具有丁铎尔现象 D: 胶粒能发生扩散
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氢氧化铁溶胶能给稳定存在的原因是胶粒在不停做布朗运动。
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使溶胶稳定的最主要原因是 A: 高分子溶液的保护作用 B: 胶粒表面存在水化膜 C: 胶粒的布朗运动 D: 胶粒带电
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溶胶稳定的主要因素是（） A: 胶粒带同性电荷 B: 胶粒具有布朗运动 C: 具有丁铎尔现象 D: 胶团周围具有水化膜 E: 胶粒能发生扩散