制取无牙下颌印模时，远中的范围是（）。
A: 盖过磨牙后垫
B: 盖过磨牙后垫的2/3
C: 盖过磨牙后垫的1/2～2/3
D: 盖过磨牙后垫的前1/3～1／2
E: 暴露磨牙后垫
A: 盖过磨牙后垫
B: 盖过磨牙后垫的2/3
C: 盖过磨牙后垫的1/2～2/3
D: 盖过磨牙后垫的前1/3～1／2
E: 暴露磨牙后垫
举一反三
- 制取无牙下颌印模时，远中的范围应当（） A: 盖过磨牙后垫全部 B: 暴露磨牙后垫 C: 盖过磨牙后垫1/2 D: 盖过磨牙后垫的1/3 E: 盖过磨牙后垫的1/2～2/3
- 下颌基托一般应该盖过磨牙后垫的（） A: 全部 B: 2/3 C: 1/3~1/2 D: 1/4 E: 止于磨牙后垫前缘
- 下颌印模后缘应盖过磨牙后垫（ ）。 A: 全部 B: 1/2 C: 1/3 D: 1/4
- 下颌义齿的后缘应覆盖于（）。 A: 磨牙后垫前缘 B: 磨牙后垫的前1/3～1/2 C: 磨牙后垫的前1/2～2/3 D: 磨牙后垫的2/3到后缘 E: 磨牙后垫后缘
- 下颌基托一般应盖过磨牙后垫的（） A: A全部 B: B2／3 C: C1／3至1／2 D: D1／4 E: E止于磨牙后垫前缘