• 2022-07-26
    简述提高半导体材料光催化活性的主要措施。
  • 1、提高材料的比表面积,控制材料的形貌结构等。比如三维多孔结构的构建、活性面的暴露; 2、掺杂。比如金属和非金属离子掺杂,拓宽材料的光吸收范围,提高材料的光吸收能力; 3、半导体复合,提高材料的光生载流子分离率。比如将两种不同的半导体材料复合,构建异质结构; 4、贵金属沉积,提高光生载流子分离; 5、有机染料光敏化,拓宽光吸收范围。

    内容

    • 0

      本身没有催化活性或催化活性很小,但是能提高催化活性物质的活性、选择性或稳定性的成分()。 A: 助催化剂 B: 载体 C: 催化活性物质 D: 引发剂

    • 1

      简述提高无机材料强度,改进材料韧性的措施。

    • 2

      制作NTC热敏电阻的材料是一种: A: 金属导体 B: 绝缘体 C: 半导体 D: 金属导体或半导体

    • 3

      半导体材料的导电能力比导体强

    • 4

      高效光催化材料必须具备的条件是( )。 A: 高效的电子-空穴分离能力,降低它们的复合几率 B: 细化催化材料 C: 半导体具有适当的导带和价带位置 D: 对可见光响应特性