阴树脂再生时温度控制多少？为什么？是否温度越高越好？为什么？
（1）阴树脂再生时温度控制在40～50℃之间（2）因为高温再生加快了离子扩散和交换速度故可加快再生速度，可提高二氧化硅的洗脱率，增加再生的彻底性，再生剂可以节约2/5左右，再生度可以提高7%左右（比常温再生）（3）不是（4）温度过高可使树脂的功能基团降解，从而影响工作交换容量，缩短运行周期。
举一反三
内容
- 0
再生器顶部温度应控制在多少为宜？为什么？
- 1
为了提高再生效果再生剂温度越高越好。
- 2
什么叫火墙温度？为什么要限制火墙温度？
- 3
吸附压力是否越高越好？为什么？
- 4
什么叫分子的有效直径?它是否随温度变化而变化?为什么?