CMP技术所采用的设备有抛光机、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等，其中（）是最重要的设备。
A: 后CMP清洗设备
B: 抛光机
C: 抛光终点检测及工艺控制设备
D: 废物处理和检测设备
A: 后CMP清洗设备
B: 抛光机
C: 抛光终点检测及工艺控制设备
D: 废物处理和检测设备
举一反三
- 中国大学MOOC: CMP技术所采用的设备有抛光机、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等，其中（）是最重要的设备。
- 中国大学MOOC: CMP技术所采用的设备有抛光机、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等，其中（）是最重要的设备。
- 中国大学MOOC: CMP技术所采用的设备有抛光机、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等，其中（）是最重要的设备。
- 抛光技术常用的的设备包括: A: 抛光机 B: CMP后清洗设备 C: 抛光终点检测设备 D: 工艺控制、废物处理设备等
- 化学机械抛光CMP工艺中影响抛光质量的三大关键要素是（）。 A: 抛光机 B: 抛光液 C: 抛光垫 D: 后清洗设备