CMP工艺中抛光压力越大，抛光速率越快，抛光效果就越好。
错
举一反三
内容
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酸性抛光液的PH值越大,抛光速率也就越快。( )
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化学机械抛光CMP设备中的抛光区域温度升高，抛光速率会减小，但是温度过高过低均会引起抛光质量下降。
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综合抛光速率和抛光效果，稀土抛光粉的颗粒尺寸为( )的抛光效果最佳。
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化学机械抛光设备中的抛光垫越粗糙，抛光速率越高，抛光图形的选择性越高，平坦化抛光的效果也越好，但过于粗糙，易产生划痕。 A: 正确 B: 错误
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化学机械抛光技术中的抛光垫越粗糙，抛光速率越高，抛光图形的选择性越低，平坦化抛光的效果也越好，但过于粗糙，易产生划痕。 A: 正确 B: 错误