杨氏双缝干涉装置中,如果光源沿垂直轴线方向下移,则干涉图样将如何变化?( )
A: 条纹上移 ,间距不变
B: 条纹下移,间距不变
C: 条纹上移 ,间距变大
D: 条纹下移,间距变大
A: 条纹上移 ,间距不变
B: 条纹下移,间距不变
C: 条纹上移 ,间距变大
D: 条纹下移,间距变大
举一反三
- 【单选题】若用一薄云母片将杨氏双缝实验装置的上缝盖住,则: A. 条纹上移，但干涉条纹间距不变 B. 条纹下移，但干涉条纹间距不变 C. 条纹上移，但干涉条纹间距变小 D. 条纹上移，但干涉条纹间距变大
- 在劈尖干涉实验中，劈尖夹角θ变小时，干涉条纹将 A: 下移，条纹间距变小 B: 上移，条纹间距变大 C: 不动，条纹间距也不变 D: 不好确定
- 在杨氏双缝干涉实验中，如果用薄云母片盖住下缝，则干涉条纹将（）。 A: 条纹上移，干涉条纹之间的距离不变 B: 条纹上移，干涉条纹之间的距离变小 C: 条纹下移，干涉条纹之间的距离不变 D: 条纹下移，干涉条纹之间的距离变大
- 在杨氏双孔干涉装置中，如果将将双孔屏沿横向向上作小位移，对屏幕上干涉条纹的描述正确的是 A: 整个干涉条纹区向下移 B: 干涉条纹间距变大，可见度变小 C: 整个干涉条纹区向上移 D: 干涉条纹间距和可见度不变
- 在杨氏双缝干涉实验中，如果用薄云母片盖住下缝，则干涉条纹将（）。 A: A条纹上移，干涉条纹之间的距离不变 B: B条纹上移，干涉条纹之间的距离变小 C: C条纹下移，干涉条纹之间的距离不变 D: D条纹下移，干涉条纹之间的距离变大