关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 局部平坦化的特点是在一定范围的硅片表 面上实现平坦化，主要技术为（）法。 A: 旋涂玻璃 (SOG)法 B: 化学机械抛光CMP法 C: 玻璃回流法 D: 回刻技术 局部平坦化的特点是在一定范围的硅片表 面上实现平坦化，主要技术为（）法。A: 旋涂玻璃 (SOG)法B: 化学机械抛光CMP法C: 玻璃回流法D: 回刻技术 答案： 查看 举一反三 先进的平坦化技术有 ()。 A: 反刻法 B: 高温回流法 C: 旋涂玻璃法 D: 化学机械抛光法 中国大学MOOC: 局部平坦化的特点是在一定范围的硅片表 面上实现平坦化，主要技术为（）法。 能够实现全局平坦化的方式是: A: 反刻 B: 高温回流 C: 旋涂玻璃法 D: 化学机械抛光 常用的平坦化方法有: A: 反刻 B: 高温回流 C: 旋涂玻璃法 D: 化学机械抛光 生产中常应用于深亚微米的平坦化技术是: A: 反刻 B: 高温回流 C: 旋涂玻璃法 D: 化学机械抛光
