硅片的清洗主要分为两大类，干法清洗和（）清洗。
湿法
举一反三
内容
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清洗硅片等半导体材料时,可以用自然水清洗。
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中国大学MOOC: 下面（）清洗方法属于干法清洗？
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湿法清洗分为（）、（）和（）。 A: 有机清洗 B: 等离子体清洗 C: 无机清洗 D: 超声清洗
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使用RCA清洗剂清洗硅片的正确清洗顺序为先I号后II号。
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循环水水质处理中清洗分为物理清洗和化学清洗。( )