关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告:维护QQ群:833371870,欢迎加入!公告:维护QQ群:833371870,欢迎加入!公告:维护QQ群:833371870,欢迎加入! 2022-06-04 当高能离子进入到硅片后,由于碰撞作用,使晶格原子离开原来的位置,出现晶格损伤。 A: 正确 B: 错误 当高能离子进入到硅片后,由于碰撞作用,使晶格原子离开原来的位置,出现晶格损伤。A: 正确B: 错误 答案: 查看 举一反三 中国大学MOOC: 当高能离子进入到硅片后,由于碰撞作用,使晶格原子离开原来的位置,出现晶格损伤。 离子注入过程是一个非平衡过程,高能离子进入靶后不断与原子核及其核外电子碰撞,逐步损失能量,最后停下来。停下来的位置是随机的,大部分不在晶格上,因而没有()。 A: 电活性 B: 晶格损伤 C: 横向效应 D: 沟道效应 当晶体热振动导致部分原子离开平衡位置进入晶格间隙,在原位置留下空位,形成肖特基缺陷。 鲍林法则主要适合描述 A: 金属晶格 B: 分子晶格 C: 原子晶格离子晶格 D: 离子晶格 由于溶质原子进入溶剂晶格的间隙或结点,使晶格发生畸变,使固溶体硬度和强度升高,这种现象称为()。