5.某种DNA损伤因素,可通过直接或间接作用,造成DNA分子发生碱基氧化修饰、碱
A: 结构的破坏与脱落、DNA链交联与断裂等多种变化。此类DNA损伤因素最有可能是
B: 紫外线
C: γ射线
D: 环氧化物
E: 嵌入性染料
F: 碱基类似物
A: 结构的破坏与脱落、DNA链交联与断裂等多种变化。此类DNA损伤因素最有可能是
B: 紫外线
C: γ射线
D: 环氧化物
E: 嵌入性染料
F: 碱基类似物
举一反三
- 某种DNA损伤因素,可通过直接或间接作用,造成DNA分子发生碱基氧化修饰、碱基环结构的破坏与脱落、DNA链交联与断裂等多种变化。此类DNA损伤因素最有可能是
- 下列不是DNA损伤的类型的是 A: 碱基损伤与糖基破坏 B: 碱基之间的错配 C: DNA链的断裂 D: DNA链的共价交联 E: 密码子的摆动性
- 关于电离辐射对DNA分子的损伤，不包括下列哪种损伤？ A: 碱基的损伤 B: DNA链的断裂 C: DNA链的交联 D: DNA链的易位
- 【单选题】最严重的DNA损伤是 A: 碱基错配 B: 碱基损伤 C: 糖基破坏 D: DNA链共价交联 E: DNA双链断裂
- DNA损伤因素中，属于自发因素的是（ ） A: DNA的复制错误 B: 不明原因的碱基损伤 C: DNA嵌入剂 D: 紫外线