集成电路按照所用晶体管结构、电路和工艺的不同,主要分为双极型集成电路、___集成电路等。
A: 非金属一氧化物一半导体(SSl)
B: 金属一氧化物一半导体(MOS)
C: 金属一氧化物一超导体(MLST)
D: 金属一氧化物一双极体(LIS)
A: 非金属一氧化物一半导体(SSl)
B: 金属一氧化物一半导体(MOS)
C: 金属一氧化物一超导体(MLST)
D: 金属一氧化物一双极体(LIS)
举一反三
- 集成电路按照所用晶体管结构、电路和工艺的不同，主要分为双极型集成电路、（b）集成电路等（） A: 非金属一氧化物一半导体（SSl） B: 金属一氧化物一半导体（MOS） C: 金属一氧化物一超导体（MLST） D: 金属一氧化物一双极体（LIS）
- 对于金属晶体、氧化物晶体和半导体晶体,其界面相变熵的大小关系为:。 A: a氧化物>a金属>a半导体 B: a氧化物>a半导体>a金属 C: a金属>a氧化物>a半导体 D: a半导体>a金属>a氧化物
- 下列判断正确的是______。 A: 酸酐一定是氧化物 B: 晶体中一定存在化学键 C: 碱性氧化物一定是金属氧化物 D: 正四面体分子中键角一定是109°28"
- MOS结构是指金属-氧化物-半导体结构
- 下列对CMOS电路描述正确的是（） A: CMOS电路是互补型金属氧化物半导体电路 B: CMOS电路由半绝缘场效应晶体管组成 C: CMOS是一种单级型晶体管集成电路 D: CMOS基本结构是一个N沟道MOS管和一个P沟道MOS管