关于络合掩蔽及其影响因素，正确的有（ ）
A: 加入掩蔽剂使其与干扰离子形成稳定的络合物而消除干扰的方法为络合掩蔽
B: 加入试剂的顺序对络合掩蔽无影响。
C: 溶液的酸度、金属离子的水解会影响络合掩蔽。
D: 掩蔽剂的用量、温度也影响络合掩蔽。
A: 加入掩蔽剂使其与干扰离子形成稳定的络合物而消除干扰的方法为络合掩蔽
B: 加入试剂的顺序对络合掩蔽无影响。
C: 溶液的酸度、金属离子的水解会影响络合掩蔽。
D: 掩蔽剂的用量、温度也影响络合掩蔽。
举一反三
- 下列关于络合掩蔽剂的叙述中;错误的是 未知类型：{'options': ['络合掩蔽剂与干扰离子的络合物稳定性,远比[tex=2.929x1.0]NlefGGJF2e6P2jYOHTb2XA==[/tex]的络合物稳定', '络合掩蔽剂应在一定的[tex=1.357x1.214]1kiKxzWeZt26Aao1ElyoVQ==[/tex]范围内使用', '络合掩蔽剂不与待测离子发生络合反应,或生成的络合物稳定性较小', '络合掩蔽剂与待测离子生成的络合物的稳定性应足够高'], 'type': 102}
- 络合掩蔽剂与干扰离子的络合物，远比EDTA的络合物稳定。 ()
- 利用掩蔽剂来降低干扰离子，使之不与（）或（）络合的方法称为掩蔽法。
- 络合滴定中，常用的掩蔽方法有（）。 A: pH掩蔽法； B: 络合掩蔽法； C: 沉淀掩蔽法； D: 氧化—还原掩蔽法。
- 提高络合滴定选择性的方法是（ ） A: 提高指示剂浓度 B: 增加配位剂的浓度 C: 控制溶液适当的酸度 D: 加入掩蔽剂掩蔽干扰离子