GMP对设备的要求（）
A: 表面光洁、平整、易清洗、消毒
B: 不与药品发生化学变化
C: 不吸附药品
D: 应有明显的状态标志
A: 表面光洁、平整、易清洗、消毒
B: 不与药品发生化学变化
C: 不吸附药品
D: 应有明显的状态标志
举一反三
- 直接接触药品的设备表面应光洁、平整、易清洗或消毒、（），不与药品发生化学变化或吸附药品。
- 与药品直接触的设备表面应光洁、平整、易清洗或消毒、耐腐蚀，不与药品发生化学变化或吸附药品。设备所用的（）、冷却剂等不得对药品或容器造成污染。
- 与药品直接接触的生产设备表面应当平整、光洁、易清洗或消毒、耐腐蚀，不得与药品发生（）反应，吸附药品或向药品溶解释放物质。
- 与药品直接接触的生产设备表面应当平整、光洁、易清洗或消毒、耐腐蚀,不得与药品发生()反应,吸附药品或向药品溶解释放物质。 A: 排异 B: 物理 C: 化学 D: 溶解
- 与药品直接接触的生产设备表面应当平整.光洁.易清洗或消毒.耐腐蚀,不得与药品发生(<br/>)反应,吸附药品或向药品溶解释放物质。 A: 排异 B: 物理 C: 化学 D: 溶解