一个点电荷q放在立方体中心，则穿过某一表面的电通量为__。 A: 0 B: q/ε0 C: q/6ε0 D: q/4ε0
一个点电荷q放在立方体中心，则穿过某一表面的电通量为__。 A: 0 B: q/ε0 C: q/6ε0 D: q/4ε0
一点电荷q位于一立方体的中心，通过该立方体每个面的电通量为（）。 A: q/(ε0 ) B: q/(3ε0 ) C: q/(6ε0 ) D: q/(8ε0 )
一点电荷q位于一立方体的中心，通过该立方体每个面的电通量为（）。 A: q/(ε0 ) B: q/(3ε0 ) C: q/(6ε0 ) D: q/(8ε0 )
使用G72进行孔的复合循环加工,已知X向精加工半径余量为0.3mm,Z向精加工余量为0.1mm,则正确的指令格式是()。 A: G72P（ns）Q（nf）U（0.1）W（0.3） B: G72P（ns）Q（nf）U（0.3）W（0.1） C: G72P（ns）Q（nf）U（-0.1）W（0.3） D: G72P（ns）Q（nf）U（-0.3）W（0.1）
使用G72进行孔的复合循环加工,已知X向精加工半径余量为0.3mm,Z向精加工余量为0.1mm,则正确的指令格式是()。 A: G72P（ns）Q（nf）U（0.1）W（0.3） B: G72P（ns）Q（nf）U（0.3）W（0.1） C: G72P（ns）Q（nf）U（-0.1）W（0.3） D: G72P（ns）Q（nf）U（-0.3）W（0.1）
真空中，一点电荷位于一立方体中心，通过立方体每个表面的电通量为：（ ） A: q/16ε0 B: q/8ε0 C: q/4ε0 D: q/6ε0
真空中，一点电荷位于一立方体中心，通过立方体每个表面的电通量为：（ ） A: q/16ε0 B: q/8ε0 C: q/4ε0 D: q/6ε0
真空中，一点电荷位于一立方体中心，通过立方体每个表面的电通量为 A: q/16ε0 B: q/8ε0 C: q/4ε0 D: q/6ε0
真空中，一点电荷位于一立方体中心，通过立方体每个表面的电通量为 A: q/16ε0 B: q/8ε0 C: q/4ε0 D: q/6ε0
当生产函数为Q=f(L，K)时，规模报酬可以被描述为( )。 A: λnf(L，K)>f(L，K) B: λnf(L，K) C: λnf(L，K)=f(L，K) D: Q=f(λL、λK)
当生产函数为Q=f(L，K)时，规模报酬可以被描述为( )。 A: λnf(L，K)>f(L，K) B: λnf(L，K) C: λnf(L，K)=f(L，K) D: Q=f(λL、λK)
真空中有一点电荷 q 位于边长为a 的正立方体的中心,通过此立方体的每一面的电通量各是 ( ). A: q / ( 6 ε 0 ) B: q / ( 8 ε 0 ) C: q / ( 12 ε 0 ) D: q / ( 24 ε 0 )
真空中有一点电荷 q 位于边长为a 的正立方体的中心,通过此立方体的每一面的电通量各是 ( ). A: q / ( 6 ε 0 ) B: q / ( 8 ε 0 ) C: q / ( 12 ε 0 ) D: q / ( 24 ε 0 )
G71U△d-Re-;G71P(ns)-Q(nf)-U(△u)-W(△w)中,△d-为,e为,ns为,nf为,△u为,△w为。
G71U△d-Re-;G71P(ns)-Q(nf)-U(△u)-W(△w)中,△d-为,e为,ns为,nf为,△u为,△w为。
在一个剖面为正六边形的旋转对称体的一个顶点上放置一个点电荷，电量为q，那么，通过该旋转对称体表面的电通量为 A: q/ε0 B: q/2ε0 C: q/4ε0 D: q/6ε0
在一个剖面为正六边形的旋转对称体的一个顶点上放置一个点电荷，电量为q，那么，通过该旋转对称体表面的电通量为 A: q/ε0 B: q/2ε0 C: q/4ε0 D: q/6ε0
在G71P(ns)Q(nf)U(△u)W(△w)S500程序格式中,()表示径向精加工余量。 A: △w B: ns C: △u D: nf
在G71P(ns)Q(nf)U(△u)W(△w)S500程序格式中,()表示径向精加工余量。 A: △w B: ns C: △u D: nf