（1）u=u_R+u_L+u_C （2）U=U_R+U_L+U_C （3）U=U_R+j（U_L-U_C） （4）U̇=U̇_R+U̇_L+U̇_C （5）U̇=U̇_R+j（U̇_L+U̇_C） 上述公式中正确的是（） A: （1）（2）（3）（4） B: （3）（4）（5） C: （1）（4）（5） D: 全都正确
（1）u=u_R+u_L+u_C （2）U=U_R+U_L+U_C （3）U=U_R+j（U_L-U_C） （4）U̇=U̇_R+U̇_L+U̇_C （5）U̇=U̇_R+j（U̇_L+U̇_C） 上述公式中正确的是（） A: （1）（2）（3）（4） B: （3）（4）（5） C: （1）（4）（5） D: 全都正确
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微需氧菌培养时，气体环境为（） A: 5％ B: 85％ C: 10％CO D: 10％ E: 85％ F: 5％CO G: 85％ H: 5％ I: 10％CO J: 5％ K: 85％ L: 10％CO M: 5％ N: 85％ O: 10％CO
微需氧菌培养时，气体环境为（） A: 5％ B: 85％ C: 10％CO D: 10％ E: 85％ F: 5％CO G: 85％ H: 5％ I: 10％CO J: 5％ K: 85％ L: 10％CO M: 5％ N: 85％ O: 10％CO
微需氧菌培养时，气体环境为（） A: 5％H2、85％N2、10％CO2 B: 10％H2、85％N2、5％CO2 C: 85％O2、5％N2、10％CO2 D: 5％H2、85％N2、10％CO2 E: 5％O2、85％N2、10％CO2
微需氧菌培养时，气体环境为（） A: 5％H2、85％N2、10％CO2 B: 10％H2、85％N2、5％CO2 C: 85％O2、5％N2、10％CO2 D: 5％H2、85％N2、10％CO2 E: 5％O2、85％N2、10％CO2
微需氧菌培养时，气体环境为（） A: 5％H、85％N、10％CO B: 10％H、85％N、5％CO C: 85％O、5％N、10％CO D: 5％H、85％N、10％CO E: 5％O、85％N、10％CO
微需氧菌培养时，气体环境为（） A: 5％H、85％N、10％CO B: 10％H、85％N、5％CO C: 85％O、5％N、10％CO D: 5％H、85％N、10％CO E: 5％O、85％N、10％CO
下面电压中，实际电压方向是b→a的是（）V。 A: U=5 B: U=-5 C: U=5 D: U=-5
下面电压中，实际电压方向是b→a的是（）V。 A: U=5 B: U=-5 C: U=5 D: U=-5
一种零件的标准长度是5cm,要检验某天生产的另加是否符合标准要求,建立的原假设和备择假设应为( ) A: H0:u=5,H1:u≠5 B: H0:u≠5,H1:u=5 C: H0:u≤5,H1:u>;5 D: H0:u≥5, H1:u<;5
一种零件的标准长度是5cm,要检验某天生产的另加是否符合标准要求,建立的原假设和备择假设应为( ) A: H0:u=5,H1:u≠5 B: H0:u≠5,H1:u=5 C: H0:u≤5,H1:u>;5 D: H0:u≥5, H1:u<;5
在晶闸管整流电路中，若有U A: U=U B: U=（2～3）U C: U=（5～10）U D: U≥10U
在晶闸管整流电路中，若有U A: U=U B: U=（2～3）U C: U=（5～10）U D: U≥10U
人脸注册失败率不高于（）；人脸识别正确率不低于（）。 A: 3％，87％ B: 5％，85％ C: 8％，85％ D: 10％，80％
人脸注册失败率不高于（）；人脸识别正确率不低于（）。 A: 3％，87％ B: 5％，85％ C: 8％，85％ D: 10％，80％
下面属于弹道导弹(洲际导弹)是: A: 东风-41 B: 民兵3 C: 布拉瓦 D: 东风5
下面属于弹道导弹(洲际导弹)是: A: 东风-41 B: 民兵3 C: 布拉瓦 D: 东风5