下列配合物的配位数不是6的是 A: K2[Co（SCN）4] B: Na2[SiF6] C: Na3[AlF6] D: [Cu（NH3）4]Cl2
下列配合物的配位数不是6的是 A: K2[Co（SCN）4] B: Na2[SiF6] C: Na3[AlF6] D: [Cu（NH3）4]Cl2
根据VSEPR理论,在SiF6 中,中心原子的价层电子总数为 10 个
根据VSEPR理论,在SiF6 中,中心原子的价层电子总数为 10 个
以下哪种属于硫酸生产行业向大气排放的常见主要污染物（） A: A粉尘、氟化物、SiF<sub>4</sub>、硫酸气溶胶 B: B氟化氢、SiF<sub>4</sub> C: C氟化物、SiF<sub>4</sub>、硫酸气溶胶 D: DSO<sub>2</sub>、NOx、As、硫酸气溶胶
以下哪种属于硫酸生产行业向大气排放的常见主要污染物（） A: A粉尘、氟化物、SiF<sub>4</sub>、硫酸气溶胶 B: B氟化氢、SiF<sub>4</sub> C: C氟化物、SiF<sub>4</sub>、硫酸气溶胶 D: DSO<sub>2</sub>、NOx、As、硫酸气溶胶
以下哪种视频格式MC不支持（） A: CIF B: 4CIF C: QCIF D: SIF
以下哪种视频格式MC不支持（） A: CIF B: 4CIF C: QCIF D: SIF
、单选题 1 、下列反应为氧化还原反应的是 ........................................................................... （ ） (A) CH 3 CSNH 2 + H 2 O → CH 3 COONH 4 + H 2 S ； (B) XeF 6 + H 2 O → XeOF 4 + HF ； (C) 2XeF 6 + SiO 2 → SiF 4 + 2XeOF 4 ； (D) XeF 2 + C 6 H 6 → C 6 H 5 F + HF + Xe 。
、单选题 1 、下列反应为氧化还原反应的是 ........................................................................... （ ） (A) CH 3 CSNH 2 + H 2 O → CH 3 COONH 4 + H 2 S ； (B) XeF 6 + H 2 O → XeOF 4 + HF ； (C) 2XeF 6 + SiO 2 → SiF 4 + 2XeOF 4 ； (D) XeF 2 + C 6 H 6 → C 6 H 5 F + HF + Xe 。
下列化合物属于配合物的是( ) A: CuSO4·5H2O B: [NH4Fe(SO4)2·12H2O] C: H2[SiF6] D: FeSO4·7H2O
下列化合物属于配合物的是( ) A: CuSO4·5H2O B: [NH4Fe(SO4)2·12H2O] C: H2[SiF6] D: FeSO4·7H2O
下列物质中熔点最高的是（） A: SiF B: SiBr C: SiI D: SiCl
下列物质中熔点最高的是（） A: SiF B: SiBr C: SiI D: SiCl
下列物质中硬度最大的是（）。 A: SiC B: SiF C: SiCl D: SiBr
下列物质中硬度最大的是（）。 A: SiC B: SiF C: SiCl D: SiBr
下列化合物常温下呈液态的是（）。 A: SiH B: GeH C: SiF D: SiCl
下列化合物常温下呈液态的是（）。 A: SiH B: GeH C: SiF D: SiCl
下列方程式中属于刻蚀工艺的是______。 A: SiF4+2HF→H2[SiF6] B: CF4+SiO2 → SiF4+CO2↑ C: CF4+SiO2 +O2→SiF4+CO2↑ D: SiO2+4HF→SiF4+2H2O
下列方程式中属于刻蚀工艺的是______。 A: SiF4+2HF→H2[SiF6] B: CF4+SiO2 → SiF4+CO2↑ C: CF4+SiO2 +O2→SiF4+CO2↑ D: SiO2+4HF→SiF4+2H2O