某工程，挖土方500wm³，利用土方200wm³，开炸石方200wm³，利用开炸石方100wm³，弃方为（）wm³
400
举一反三
内容
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金属与n 型半导体形成阻挡层，其功函数需满足（ ） A: Wm＞Ws B: 其他 C: Wm =Ws D: Wm ＜Ws
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对于理想MIS结构（半导体为p型），功函数差造成C-V特性曲线向右偏移，此时（ ） A: Wm＜Ws B: Wm＞Ws C: Wm=Ws D: 无法比较
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What does WM stand fo
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在什么条件下，金属和半导体接触形成电子阻挡层？ A: 金属和n型半导体接触，Wm>;Ws B: 金属和n型半导体接触，Wm<;Ws C: 金属和p型半导体接触，Wm>;Ws D: 金属和p型半导体接触，Wm<;Ws
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表观密度为的材料，其质量吸水率Wm和体积吸水率Wv存在的关系是：Wv＝Wm·