无机清洗主要可以利用（）去除有机物，或者利用（）去除表面沾污的金属离子。
举一反三
- 中国大学MOOC: 无机清洗主要可以利用（）去除有机物，或者利用（）去除表面沾污的金属离子。
- InTex的目的是去除硅片表面的污染物；在硅片表面腐蚀出绒面；络合硅片表面沾污的金属离子。
- SC-2，又称2号清洗液，在晶圆清洗技术中主要是用来去除硅片表面的 。 A: 颗粒 B: 有机沾污 C: 自然氧化层 D: 金属沾污
- 前清洗具有去除金属离子效果的离子为（）。 A: 氟离子 B: 氯离子 C: 钠离子 D: 钾离子
- 含有机物浓度较高的水样在进行无机离子色谱分析前，必须经去除有机物的处理。以下哪些方法可用于除去有机物？（） A: 有机溶剂萃取 B: 有机物捕集柱 C: 高氯酸消解 D: 有机滤膜过滤