在外加栅压为零时,p沟增强型MOS管半导体表面处于状态,导电沟道。()
A: 积累,无
B: 耗尽,无
C: 反型,有
D: 积累,有
A: 积累,无
B: 耗尽,无
C: 反型,有
D: 积累,有
举一反三
- 中国大学MOOC: 在外加栅压为零时,p沟增强型MOS管半导体表面处于 状态, 导电沟道。()
- n沟增强型MOS管在栅压为零时,由于氧化层中正电荷的作用半导体表面通常为___状态,开启电压为___。( ) A: 积累,正值 B: 耗尽,正值 C: 积累,负值 D: 耗尽,负值
- 对于p型半导体形成的MOS电容结构,当金属端外加负电压时,表面能带向弯曲,表面为状态;对于n型半导体表面能带向弯曲,表面为状态()。 A: 上,积累,下,耗尽或反型 B: 上,耗尽或反型,上,积累 C: 上,积累,上,耗尽或反型 D: 下,积累,下,耗尽或反型
- CMOS反相器基本电路包括() A: P沟道增强型MOS管和N沟道增强型MOS管 B: P沟道耗尽型MOS管和N沟道耗尽型MOS管 C: P沟道增强型MOS管和N沟道耗尽型MOS管 D: P沟道耗尽型MOS管和N沟道增强型MOS型
- 对于P型衬底的MOS结构,栅电压大于零时,半导体表面处于多子积累状态。