下列关于耐高温新型陶瓷——氮化硅(Si3N4)的叙述，正确的是
A: 氮化硅中Si、N两种元素的质量比为4：3
B: 氮化硅中氮元素的质量分数为60％
C: 14g氮化硅中含硅8.4g
D: 氮化硅的相对分子质量为l44
A: 氮化硅中Si、N两种元素的质量比为4：3
B: 氮化硅中氮元素的质量分数为60％
C: 14g氮化硅中含硅8.4g
D: 氮化硅的相对分子质量为l44
C
举一反三
- 下列关于耐高温新型陶瓷氮化硅（Si3N4）的叙述正确的是（ ） A: 氮化硅中Si、N两种元素的质量比为3：4 B: 氮化硅中氮元素的质量分数为40% C: 140g氮化硅中含硅元素的质量为84g D: 氮化硅的相对分子质量为140g
- 玻璃是以()为主要原料,加入辅料经高温熔融制成的。 A: 氮化硅 B: 二氧化硅 C: 磷酸硅 D: 氯化硅
- 沙子的主要成分是（） A: 碳化硅 B: 二氧化硅 C: 氮化硅 D: 三氧化硅
- PECVD常见的形成的薄膜名称是（）。 A: 氧化硅 B: 氮化硅 C: 硅 D: 氧化铝
- 下列哪些材料是新型无机材料（） ①氧化铝陶瓷 ②氮化硅陶瓷 ③碳化硅陶瓷 ④氮化铝陶瓷 ⑤氮化钛陶瓷 ⑥硅化硼陶瓷 ⑦二硅化铜陶瓷 A: ①②③ B: ①③④⑤ C: ①⑤⑥ D: 全部
内容
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硅衬底上淀积氮化硅之前必须先制备一层薄薄的氧化硅作为缓冲层。
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下列关于耐高温新型陶瓷——氮化硅(Si3N4)的叙述，正确的是（ ）
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STI中的填充氧化层是用CMP技术磨去比氮化硅层高的所有氧化硅，从而实现全局平坦化。 A: 正确 B: 错误
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中国大学MOOC: STI中的填充氧化层是用CMP技术磨去比氮化硅层高的所有氧化硅，从而实现全局平坦化。
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除了Si和N,减反射膜中的氮化硅一般还包含一定比例的(),其可以起到钝化作用,复合硅片体内的缺陷。 A: 氧原子 B: 氢原子 C: 硅原子 D: 氮化硅原子