关于电离室控时自动曝光控制叙述错误的是（）
A: 利用气体的电离效应
B: X线强度大时，电离电流大
C: X线强度大时，曝光时间长
D: 电容充电电流与X线曝光量成反比
E: 电离电流小时，曝光时间长
A: 利用气体的电离效应
B: X线强度大时，电离电流大
C: X线强度大时，曝光时间长
D: 电容充电电流与X线曝光量成反比
E: 电离电流小时，曝光时间长
举一反三
- 关于电离室控时自动曝光控制装置叙述错误的是 A: 利用气体的电离效应 B: X线强度大时,电离电流大 C: 电容充电电流与X线曝光量成反比 D: 电离电流小时,曝光时间长 E: 位于被检部位与IR之间
- 关于电离室自动曝光控时的叙述，哪组是错误的（） A: X线辐射强度大，电离电流大 B: 电容器的放电速率与电离电流成反比 C: V管导通的时间短，曝光时间则短 D: 电容器放电电流正比于X线辐射强度 E: 电容器放电与X线辐射强度成正比
- 电离室的自动曝光控制系统，其电离室块控制原理是： A: 收集光电转换电荷 B: 收集液体电离电荷 C: 收集气体电离电荷 D: 收集固体电离电荷
- 电离室自动曝光控制是利用了 ( ) A: 光电效应 B: 气体电离 C: 计时器定时 D: 康普顿效应
- 诊断X线机中，X线的量是由（）的大小决定的。 A: 管电流 B: 管电流与曝光时间乘积 C: 管电压 D: 管电压与曝光时间乘积