在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉，上釉有两种方法：自行上釉和分别上釉，其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟，高于体瓷烧熔温度的范围是（）。
A: 31～40℃
B: 21～30℃
C: 10℃以内
D: 11～20℃
E: 5℃
A: 31～40℃
B: 21～30℃
C: 10℃以内
D: 11～20℃
E: 5℃
举一反三
- 釉液上釉的烧结温度是：（） A: 低于体瓷烧结温度5℃ B: 低于体瓷烧结温度10℃ C: 高于体瓷烧结温度5℃ D: 高于体瓷烧结温度10℃ E: 以上均不对
- 若采用自身上釉，烧结温度比体瓷的烧结温度（）。
- A1型题 若采用自身上釉，烧结温度比体瓷的烧结温度 （） A: 高20～30℃ B: 高10～20℃ C: 高10℃以内 D: 低10℃以内 E: 低10～20℃
- 关于自身上釉的说法中,正确的是 A: 自身上釉指的是将修复体烧结到一定温度的过程,该温度常与原来的烧结温度相同或比原来的烧结温度稍低 B: 在达到上釉的温度之后,应立即从烤瓷炉中取出修复体,或者维持1~2分钟时间,直到瓷的外表面形成理想的光泽度为止 C: 在烧结过程中,瓷表面会玻璃化并充分熔融,充填不规则的或多孔的表面 D: 自身上釉的陶瓷表面光泽度与烧结时间和温度有密切关系,温度越低,在该温度下的时间越短,表面就会越光滑 E: 上釉时温度过高或时间过长,陶瓷表面会塌陷,从而破坏修复体的外形
- 关于自身上釉的说法中,错误的是 A: 自身上釉指的是将修复体烧结到一定温度的过程,该温度常与原来的烧结温度相同或比原来的烧结温度稍高 B: 在达到上釉的温度之后,应立即从烤瓷炉中取出修复体,或者维持1~2分钟时间,直到瓷的外表面形成理想的光泽度为止 C: 在烧结过程中,瓷表面会橡胶化并流动,充填不规则的或多孔的表面 D: 自身上釉的陶瓷表面光泽度与烧结时间和温度有密切关系,温度越高,在该温度下的时间越长,表面就会越光滑 E: 上釉时温度过高或时间过长,陶瓷表面会塌陷,从而破坏修复体的外形