关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-30 以下各项中存在于Si-SiO2界面处的是（）。 以下各项中存在于Si-SiO2界面处的是（）。 答案： 查看 举一反三 中国大学MOOC: 以下各项中存在于Si-SiO2界面处的是（ ）。 以下各项中存在于Si-SiO2界面处的是（ ）。 A: 固定正电荷 B: Si-SiO2界面态 C: 可动电荷 D: 电离陷阱 以下各项中存在于Si-SiO2界面处的是（ ）。 A: 固定正电荷 B: Si-SiO2界面态 C: 可动电荷 D: 电离陷阱 2. 二次再结晶的过程中存在晶核，界面处有应力存在，气孔维持在晶界上或晶界交汇处（）。 界面现象产生的本质在于界面张力的存在，而界面张力产生的本质在于界面层分子受到不为零的合力的作用。
