（）的刻蚀方法是以等离子体辅助来进行薄膜刻蚀的一种技术。
A: 干法刻蚀
B: 湿法刻蚀
C: 化学刻蚀
D: 物理刻蚀
A: 干法刻蚀
B: 湿法刻蚀
C: 化学刻蚀
D: 物理刻蚀
举一反三
- 中国大学MOOC: （）的刻蚀方法是以等离子体辅助来进行薄膜刻蚀的一种技术。
- 干法刻蚀和湿法刻蚀二者中，通常（）的刻蚀选择比较高，（）的刻蚀通常是各向异性。 A: 湿法刻蚀 干法刻蚀 B: 干法刻蚀 湿法刻蚀 C: 湿法刻蚀 湿法刻蚀 D: 干法刻蚀 干法刻蚀
- 两种刻蚀方法中,属于各向同性刻蚀的是: A: 干法刻蚀 B: 湿法刻蚀 C: 离子刻蚀 D: 溅射刻蚀
- 三种干法刻蚀方法中，选择性最好的是 。 A: 等离子刻蚀 B: 溅射刻蚀 C: 反应离子刻蚀 D: 湿法刻蚀
- 中国大学MOOC: 刻蚀的方法有两类：湿法刻蚀和干法刻蚀，其中，（）是利用液体化学试剂以化学形式除去硅片表面材料。而（）是利用等离子体辅助来进行刻蚀的技术，刻蚀反应中不涉及液体。