关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 氧化硅抛光主要是用来全局平坦化金属层之间淀积的ILD介质的。 A: 正确 B: 错误 氧化硅抛光主要是用来全局平坦化金属层之间淀积的ILD介质的。A: 正确B: 错误 答案： 查看 举一反三 氧化硅抛光主要是用来全局平坦化金属层之间淀积的ILD介质的。 中国大学MOOC: 氧化硅抛光主要是用来全局平坦化金属层之间淀积的ILD介质的。 氧化硅的CMP抛光中，氧化层用CMP抛光至特定的厚度，因为没有抛光停止层，ILD氧化层抛光需要有效的终点检测 A: 正确 B: 错误 氧化硅的CMP抛光中，氧化层用CMP抛光至特定的厚度，因为没有抛光停止层，ILD氧化层抛光需要有效的终点检测 高温回流平坦化可应用于金属层间介质的平坦化 A: 正确 B: 错误
