二次清洗工艺的作用：用（）去除扩散工序在硅片表面形成的磷硅玻璃层。
A: HCl酸
B: HF酸
C: NaOH溶液
D: 异丙醇
A: HCl酸
B: HF酸
C: NaOH溶液
D: 异丙醇
举一反三
- 刻蚀设备SCHMID的刻蚀槽使用的化学试剂是（），其功能（） A: HF/HNO去除非扩散面PN结 B: KOH；中和残留酸 C: HF；去除扩散面磷硅玻璃层 D: HCL；去除扩散面磷硅玻璃层
- 下列酸中能够腐蚀玻璃的是( )。 A: HCl B: H2SO4 C: HNO3 D: HF
- 用同浓度的NaOH溶液分别滴定同体积的和HCl溶液,消耗相同体积的NaOH,说明() A: 两种酸的浓度相同 B: 两种酸的解离度相同 C: HCl溶液的浓度是溶液浓度的2倍 D: 两种酸的化学计量点相同
- 用同浓度的NaOH溶液分别滴定同体积的H2C2O4和HCl,消耗相同体积的NaOH,说明: A: 两种酸的浓度相同。 B: 两种酸的电离度相同。 C: HCl溶液的浓度是H2C2O4溶液浓度的两倍。 D: 两种酸的化学计量点相同。
- 用同浓度的NaOH溶液分别滴定同体积的H2C2O4和HCl溶液，消耗的NaOH溶液的体积相同，说明（ ）。 A: 两种酸的浓度相同 B: 两种酸的电离度相同 C: H2C2O4浓度是HCl的两倍 D: HCl浓度是H2C2O4的两倍