以下几种光刻方法中，属于光学曝光的是
A: 接触式
B: 接近式
C: 步进式
D: 扫描式
A: 接触式
B: 接近式
C: 步进式
D: 扫描式
A,A,A,A,B,C,D
举一反三
内容
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简述接触式光刻、接近式光刻及投影式光刻的优缺点。
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投影式光刻技术主要包括 A: 扫描投影 B: 步进投影 C: 扫描步进投影 D: 接触投影
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在光学曝光中，由于掩膜版的位置不同，又分为接触式曝光，接近式曝光和： 。 A: 投影式曝光 B: X射线曝光 C: 电子束曝光 D: 离子束曝光
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投影式曝光比接近式曝光、接触式曝光的分辨率更高一些。 A: 正确 B: 错误
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以下各种光刻技术中，不属于非光学曝光的是 A: 电子束光刻 B: 离子束光刻 C: X射线光刻 D: 浸润式光刻