pecvd的p指的是（）。
A: 射频
B: 气相
C: 等离子体
D: 增强
A: 射频
B: 气相
C: 等离子体
D: 增强
C
举一反三
内容
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“等离子体增强化学气相沉积”,是一种化学气相沉积。
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()采用增强的等离子体,从而增加淀积能量,降低沉积温度。 A: APCVD B: LPCVD C: PECVD
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物理气相沉积方法有（ ）。 A: 磁控溅射 B: 等离子体增强化学气相沉积 C: 热蒸发 D: 电子束蒸发
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反应离子刻蚀的机理包括()。 A: 等离子体增强化学气相反应 B: 溅射轰击 C: 侧壁保护
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PECVD中，等离子体的激励方式有 。