关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-26 PECVD沉积氮化硅膜的优点有（）。 A: 减反射 B: 钝化 C: 制造PN结 D: 导电 PECVD沉积氮化硅膜的优点有（）。A: 减反射B: 钝化C: 制造PN结D: 导电 答案： 查看 举一反三 氮化硅膜的主要作用是减反射，同时还有钝化的作用。 作为芯片保护膜、钝化膜的氮化硅是以PECVD、LPCVD中的 ______ 方法制备的。 PECVD常见的形成的薄膜名称是（）。 A: 氧化硅 B: 氮化硅 C: 硅 D: 氧化铝 在半导体制造中，氮化硅Si3N4可以作为杂质扩散的掩蔽膜和钝化膜使用。 PECVD工艺的目的：在硅片表面沉积一层薄膜，达到（）的作用。 A: 绝缘 B: 减反射 C: 增反射 D: 美观
