关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-26 作为芯片保护膜、钝化膜的氮化硅是以PECVD、LPCVD中的 ______ 方法制备的。 作为芯片保护膜、钝化膜的氮化硅是以PECVD、LPCVD中的 ______ 方法制备的。 答案： 查看 举一反三 PECVD沉积氮化硅膜的优点有（）。 A: 减反射 B: 钝化 C: 制造PN结 D: 导电 在半导体制造中，氮化硅Si3N4可以作为杂质扩散的掩蔽膜和钝化膜使用。 氮化硅Si3N4可以作为杂质扩散的掩蔽膜和钝化膜使用。 A: 正确 B: 错误 中国大学MOOC: 氮化硅Si3N4可以作为杂质扩散的掩蔽膜和钝化膜使用。 中国大学MOOC: 在半导体制造中，氮化硅Si3N4可以作为杂质扩散的掩蔽膜和钝化膜使用。
