二氧化硅膜的质量要求有（）。
A: 薄膜表面无斑点
B: 薄膜中的带电离子含量符合要求
C: 薄膜表面无针孔
D: 薄膜的厚度达到规定指标
E: 薄膜厚度均匀，结构致密
A: 薄膜表面无斑点
B: 薄膜中的带电离子含量符合要求
C: 薄膜表面无针孔
D: 薄膜的厚度达到规定指标
E: 薄膜厚度均匀，结构致密
A,B,C,D,E
举一反三
- 二氧化硅膜的质量要求有（）。 A: A薄膜表面无斑点 B: B薄膜中的带电离子含量符合要求 C: C薄膜表面无针孔 D: D薄膜的厚度达到规定指标 E: E薄膜厚度均匀，结构致密
- 四探针法可以用来确定________和薄膜电阻。 A: 薄膜厚度 B: 电阻率 C: 薄膜质量 D: 薄膜成分
- 磁控溅射能够精确控制镀层的厚度、组成薄膜的颗粒大小，薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好。
- PECVD工序的目的是为了在硅表面形成一层致密的薄膜，薄膜的组成部分主要是？ A: 二氧化硅 B: 二氧化钛 C: 氮化硅 D: 氢原子
- 薄膜等倾干涉条纹定域在() A: 薄膜前表面； B: 薄膜后表面； C: 距薄膜无穷远； D: 在薄膜附近。
内容
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影响吹塑薄膜厚度均匀性的主要因素有哪些？吹塑法生产薄膜有何优缺点？
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厚度均匀，折射率为1.5的透明薄膜置于空气中，用波长为400nm的单色光照射此透明薄膜，若沿着与薄膜平面成30°角的方向观察，看到薄膜最明亮，则此透明薄膜最小厚度是：（） A: B: C: D:
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用单色面光源照射在置于空气中的厚度均匀且上下表面平行的透明薄膜上并产生等倾干涉圆条纹，若可任意改变透明薄膜的厚度，则当薄膜厚度增加时，视场中干涉环向外扩张；反之，当薄膜厚度减小时，视场中干涉环向里缩。 A: 正确 B: 错误
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中国大学MOOC: 用单色面光源照射在置于空气中的厚度均匀且上下表面平行的透明薄膜上并产生等倾干涉圆条纹，若可任意改变透明薄膜的厚度，则当薄膜厚度增加时，视场中干涉环向外扩张；反之，当薄膜厚度减小时，视场中干涉环向里缩。
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利用热蒸发镀膜技术制备金属铝薄膜，所制备的铝薄膜不会呈现五颜六色，这是因为（ ）。 A: 铝材料会对入射光形成强烈吸收 B: 铝薄膜不透光，实验中不会产生干涉现象所需的相干光 C: 铝薄膜厚度均匀一致 D: 铝薄膜厚度太厚