关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-06-16 磁控溅射能够精确控制镀层的厚度、组成薄膜的颗粒大小，薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好。 磁控溅射能够精确控制镀层的厚度、组成薄膜的颗粒大小，薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好。 答案： 查看 举一反三 二氧化硅膜的质量要求有（）。 A: 薄膜表面无斑点 B: 薄膜中的带电离子含量符合要求 C: 薄膜表面无针孔 D: 薄膜的厚度达到规定指标 E: 薄膜厚度均匀，结构致密 二氧化硅膜的质量要求有（）。 A: A薄膜表面无斑点 B: B薄膜中的带电离子含量符合要求 C: C薄膜表面无针孔 D: D薄膜的厚度达到规定指标 E: E薄膜厚度均匀，结构致密 大规模镀制化合物薄膜最适合采用的溅射方法是： 。 A: 二级溅射 B: 磁控溅射 C: 射频溅射 D: 反应溅射 简述溅射成膜的原理，并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜。 影响吹塑薄膜厚度均匀性的主要因素有哪些？吹塑法生产薄膜有何优缺点？
