可以进行局部沉积制膜的化学气相方法是______________ 。
A: 热分解沉积
B: 化学反应沉积
C: 等离子体增强沉积
D: 光化学沉积
A: 热分解沉积
B: 化学反应沉积
C: 等离子体增强沉积
D: 光化学沉积
举一反三
- 化学气相沉积（CVD）按照反应气压进行分类，可以分为？ A: 常压化学气相沉积 B: 低压化学气相沉积 C: 等离子体增强化学气相沉积 D: 高压气相沉积
- 根据化学反应的形式，化学气相沉积可分为 A: 热分解反应沉积 B: 合成反应沉积 C: 化学反应沉积 D: 热还原反应沉积
- “等离子体增强化学气相沉积”,是一种化学气相沉积。
- 化学气相沉积直接制备多晶硅薄膜的方法有（）。 A: 热丝化学气相沉积制备多晶硅 B: 低压化学气相沉积制备多晶硅 C: 非晶硅晶化制备多晶硅薄膜 D: 等离子增强化学气相沉积
- 物理气相沉积方法有（ ）。 A: 磁控溅射 B: 等离子体增强化学气相沉积 C: 热蒸发 D: 电子束蒸发