硅湿法刻蚀常采用的腐蚀液成分不包含： 。
A: HF
B: HNO3
C: H2O2
D: H2O
A: HF
B: HNO3
C: H2O2
D: H2O
举一反三
- 硅湿法刻蚀常采用的湿法腐蚀液成分包括 A: HF B: H2O2 C: HNO3 D: H2O
- 硅湿法刻蚀常采用的腐蚀液成分不包含
- 二氧化硅湿法刻蚀常采用的腐蚀液成分主要包含 A: HF B: NH4F C: H202 D: H2O
- 二氧化硅湿法刻蚀常采用的腐蚀液成分主要包含
- 对于平面3节点三角形单元，单元尺寸为h，则位移的误差是____量级，应变的误差是____量级，应变能的误差是____量级。 A: $O(h^2)，O(h^2)，O(h^4)$ B: $O(h^2)，O(h)，O(h^2)$ C: $O(h^3)，O(h)，O(h^2)$ D: $O(h^3)，O(h^2)，O(h^4)$