关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 湿法刻蚀的目的是利用硝酸和氢氟酸的混合液体对硅片表面进行腐蚀，去除边缘的的PN结。 湿法刻蚀的目的是利用硝酸和氢氟酸的混合液体对硅片表面进行腐蚀，去除边缘的的PN结。 答案： 查看 举一反三 中国大学MOOC: 刻蚀的方法有两类：湿法刻蚀和干法刻蚀，其中，（）是利用液体化学试剂以化学形式除去硅片表面材料。而（）是利用等离子体辅助来进行刻蚀的技术，刻蚀反应中不涉及液体。 晶硅电池片的湿法刻蚀，通常选用（ ）和（ ）配置腐蚀液。 A: 硝酸 B: 氢氟酸 C: 盐酸 D: 硫酸 在半导体生产中，湿法腐蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。 湿法刻蚀所用化学品不包括（） A: 盐酸 B: KOH C: 硝酸 D: 氢氟酸 在半导体生产中，湿法腐蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。 A: 正确 B: 错误
