2、在CMP工艺中，CMP设备要有检测到把材料磨到一个正确厚度的能力。目前最常用的原位终点检测方法是 。
举一反三
- CMP技术所采用的设备有抛光机、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等，其中（）是最重要的设备。 A: 后CMP清洗设备 B: 抛光机 C: 抛光终点检测及工艺控制设备 D: 废物处理和检测设备
- 中国大学MOOC: CMP技术所采用的设备有抛光机、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等，其中（）是最重要的设备。
- 中国大学MOOC: CMP技术所采用的设备有抛光机、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等，其中（）是最重要的设备。
- 中国大学MOOC: CMP技术所采用的设备有抛光机、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等，其中（）是最重要的设备。
- 抛光技术常用的的设备包括: A: 抛光机 B: CMP后清洗设备 C: 抛光终点检测设备 D: 工艺控制、废物处理设备等