• 2022-10-27
    什么是干法刻蚀?什么是湿法刻蚀?比较二者的优缺点。
  • 1)干法腐蚀是应用等离子技术的腐蚀方法,刻蚀气体在反应器中等离子化,与被刻蚀材料反应(或溅射),生成物是气态物质,从反应器中被抽出。湿法刻蚀是化学腐蚀,晶片放在腐蚀液中(或喷淋),通过化学反应去除窗口薄膜,得到晶片表面的薄膜图形。 2)干法刻蚀与湿法刻蚀比较,优点: ○1保真度好,图形分辨率高; ○2湿法腐蚀难的薄膜如氮化硅等可以进行干法刻蚀。 ○3清洁性好,气态生成物被抽出;无湿法腐蚀的大量酸碱废液。 缺点: ○1设备复杂 ○2选择比不如湿法

    内容

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      干法刻蚀和湿法刻蚀二者中,通常()的刻蚀选择比较高,()的刻蚀通常是各向异性。

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      中国大学MOOC: 干法刻蚀和湿法刻蚀二者中,通常()的刻蚀选择比较高,()的刻蚀通常是各向异性。

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      中国大学MOOC: 干法刻蚀和湿法刻蚀二者中,通常()的刻蚀选择比较高,()的刻蚀通常是各向异性。

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      中国大学MOOC: 干法刻蚀和湿法刻蚀二者中,通常()的刻蚀选择比较高,()的刻蚀通常是各向异性。

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      5. 湿法刻蚀与干法刻蚀的比较错误的是