干法刻蚀的目的是什么？例举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点。干法刻蚀的不足之处是什么？
干法刻蚀的主要目的是完整地把掩膜图形复制到硅片表面上。干法刻蚀的优点：1.刻蚀剖面是各向异性，具有非常好的侧壁剖面控制2.好的CD控制3.最小的光刻胶脱落或粘附问题4.好的片内、片间、批次间的刻蚀均匀性5.较低的化学制品使用和处理费用缺点：对层材料的差的刻蚀选择比、等离子体带来的器件损伤和昂贵的设备
举一反三
- 列举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点，干法刻蚀的不足之处是什么？
- 什么是干法刻蚀？干法有几种刻蚀方法？
- 干法刻蚀和湿法刻蚀二者中，通常（）的刻蚀选择比较高，（）的刻蚀通常是各向异性。 A: 湿法刻蚀 干法刻蚀 B: 干法刻蚀 湿法刻蚀 C: 湿法刻蚀 湿法刻蚀 D: 干法刻蚀 干法刻蚀
- 关于干法和湿法刻蚀说法错误的是() A: 湿法刻蚀保真度较差 B: 干法刻蚀选择性较差 C: 干法刻蚀均匀性较好 D: 干法刻蚀清洁性较好
- ⑰ 湿法刻蚀与干法刻蚀的比较错误的是 A: 、湿法刻蚀是各向同性的，干法刻蚀是各向异性的 B: 、湿法刻蚀由于存在侧蚀现象，不宜制作很微细的图形 C: 、干法刻蚀效果好，但工艺要求高 D: 、干法和湿法刻蚀都不存在晶体缺陷和污染等物理损伤
内容
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简述什么是干法刻蚀与湿法刻蚀。
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通常湿法刻蚀的刻蚀轮廓比干法刻蚀好。
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湿法刻蚀的选择性 干法刻蚀。 A:
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什么是干法刻蚀？什么是湿法刻蚀？比较二者的优缺点。
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湿法刻蚀和干法刻蚀的区别？