4.12 干法刻蚀所用的原料有哪些？
O2N2CF4
举一反三
- 什么是干法刻蚀？干法有几种刻蚀方法？
- 关于干法和湿法刻蚀说法错误的是() A: 湿法刻蚀保真度较差 B: 干法刻蚀选择性较差 C: 干法刻蚀均匀性较好 D: 干法刻蚀清洁性较好
- 干法刻蚀和湿法刻蚀二者中，通常（）的刻蚀选择比较高，（）的刻蚀通常是各向异性。 A: 湿法刻蚀 干法刻蚀 B: 干法刻蚀 湿法刻蚀 C: 湿法刻蚀 湿法刻蚀 D: 干法刻蚀 干法刻蚀
- 12干法刻蚀所用的原料有哪些? A: O2 B: N2 C: CF4 D: F2
- ⑰ 湿法刻蚀与干法刻蚀的比较错误的是 A: 、湿法刻蚀是各向同性的，干法刻蚀是各向异性的 B: 、湿法刻蚀由于存在侧蚀现象，不宜制作很微细的图形 C: 、干法刻蚀效果好，但工艺要求高 D: 、干法和湿法刻蚀都不存在晶体缺陷和污染等物理损伤
内容
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硅的湿法刻蚀腐蚀液为热磷酸，干法刻蚀所用的气体为NF3
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通常湿法刻蚀的刻蚀轮廓比干法刻蚀好。
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湿法刻蚀的选择性 干法刻蚀。 A:
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关于湿法刻蚀和干法刻蚀，下列那种说法正确： A: 干法比湿法的图形分辨率低 B: 湿法比干法的选择性好 C: 干法比湿法的保真度好 D: 湿法比干法的设备更复杂
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硅的湿法刻蚀腐蚀液为热磷酸，干法刻蚀所用的气体为NF3 A: 正确 B: 错误