影响扩散方块电阻的因素有温度、时间和流量。
正确
举一反三
- 扩散工艺的结深主要受温度、时间、流量的影响, 影响最大。 A: 温度 B: 时间 C: 流量 D: 方块电阻
- 关于扩散方块电阻不均匀，以下说法正确的是（） A: 方块电阻片间不均匀，是由于温度调控差异所致 B: 方块电阻片间不均匀，是由于大N流量不稳定导致 C: 方块电阻过高，是由于扩散时间过长导致 D: 方块电阻片内不均匀，是由于通源不足导致
- 影响扩散的主要因素有（） A: 扩散时间 B: 扩散温度 C: 扩散气体流量 D: 以上均是
- 下面关于扩散层的方块电阻的描述不正确的是（）。 A: 方块电阻反映了单位面积扩散进去的杂质总量，扩散的杂质越多，电阻越小 B: 可以通过测方块电阻来检测扩散进去的单位面积的杂质量 C: 方块电阻反映了单位面积扩散进去的杂质总量，扩散的杂质越多，电阻越大 D: 方块电阻的测量可以采用C-V法测量
- 扩散浓度小，方块电阻大
内容
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影响乳分离效率的因素主要是温度、时间和流量。
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方块电阻反映了单位面积扩散进去的杂质总量，扩散的杂质越多，电阻越（）。
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影响绝缘电阻测量的因素有温度、湿度、______________和_______________
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扩散后硅片刻蚀后方块电阻会上升。
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检测方块电阻用到______________仪器,测试时扩散面向______________。