在配位滴定M离子时,常利用掩蔽剂(如A)来掩蔽干扰离子N,其掩蔽效果取决于
A: lg[csp(M)KMY] − lg[csp(N)KMY]
B: lgαN(A)
C: lg[csp(M)KMY]
D: lgαM(A)
A: lg[csp(M)KMY] − lg[csp(N)KMY]
B: lgαN(A)
C: lg[csp(M)KMY]
D: lgαM(A)
B
举一反三
- 在络合滴定M离子时,常利用掩蔽剂A来掩蔽干扰离子N,其掩蔽效果取决于() A: lgcMspKMY-lgcNspKNY B: lgaN(A) C: lgcMspKMY D: lgaM(A)
- 在络合滴定M离子时，常利用掩蔽剂A来掩蔽干扰离子N，其掩蔽效果取决于（ ） A: lgcMspKMY－lgcNspKNY B: lgaN(A) C: lgcMspKMY D: lgaM(A)
- 用EDTA滴定金属离子M，下列叙述中正确的是（ ） A: 若c（M）一定，lg K‘MY越大，则滴定突跃越小 B: 若c（M）一定，lg K‘MY越小，则滴定突跃越大 C: 若lg KMY一定，c（M）越大，则滴定突跃越大 D: 若lg KMY一定，c（M）越小，则滴定突跃越大
- 配位滴定中能够准确滴定的条件是（ ） A: lg(C*KMY)>8 B: lg(C*K′MY)≥6 C: lg(C*KMY)≥6 D: lg(C*K′MY)≥8
- 两种金属离子M和N 共存时，什么条件下才可用控制酸度的方法进行分别滴定（） A: △lgK/≧6 B: △lgK/≧5 C: lg(C*K′MY)≥6 D: lg(C*KMY)≥6
内容
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用指示剂(In)，以EDTA(Y)滴定金属离子M时常加入掩蔽剂(X)消除某干扰离子(N)的影响。不符合掩蔽剂加入条件的是()。 A: KNX＜KNY B: KNX》KNY C: KMX《KMY D: KMInMX
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配位滴定时，金属离子M和N的浓度相近，通过控制溶液酸度实现连续测定M和N的条件是（） A: lgKNY - lgKMY ≥2 和lg c MY和lg c NY ≥ 6 B: lgK NY - lgK MY ≥ 5和lg c MY和lg c NY ≥ 3 C: lgKMY - lgKNY ≥ 5 和 lg c MY和lg c NY ≥ 6 D: lgKMY - lgKNY ≥ 8 和lg c MY和lg c NY ≥ 4
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EDTA直接滴定金属离子，准确滴定的条件是（）。 A: lgKMY≥6 B: lgK′MY≥6 C: lg（CM×KMY）≥6 D: lg（CM×K′MY）≥6
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欲用EDTA溶液滴定金属离子M和N混合溶液中的M,已知N对M的滴定产生干扰,今在某一pH下,加入掩蔽剂A,当aN(A)>>KNY时,说明A的掩蔽效果差。( )
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已知M的lg KMY=16.5,pH =10的氨缓冲溶液中，αY(H) =100.5；αM(NH3)=104.5；αM(OH) =102.4；则在此条件下，lgK’MY为：