在络合滴定M离子时,常利用掩蔽剂A来掩蔽干扰离子N,其掩蔽效果取决于()
A: lgcMspKMY-lgcNspKNY
B: lgaN(A)
C: lgcMspKMY
D: lgaM(A)
A: lgcMspKMY-lgcNspKNY
B: lgaN(A)
C: lgcMspKMY
D: lgaM(A)
B
举一反三
- 在络合滴定M离子时，常利用掩蔽剂A来掩蔽干扰离子N，其掩蔽效果取决于（ ） A: lgcMspKMY－lgcNspKNY B: lgaN(A) C: lgcMspKMY D: lgaM(A)
- 在配位滴定M离子时,常利用掩蔽剂(如A)来掩蔽干扰离子N,其掩蔽效果取决于 A: lg[csp(M)KMY] − lg[csp(N)KMY] B: lgαN(A) C: lg[csp(M)KMY] D: lgαM(A)
- 利用掩蔽剂来降低干扰离子，使之不与（）或（）络合的方法称为掩蔽法。
- 关于络合掩蔽及其影响因素，正确的有（ ） A: 加入掩蔽剂使其与干扰离子形成稳定的络合物而消除干扰的方法为络合掩蔽 B: 加入试剂的顺序对络合掩蔽无影响。 C: 溶液的酸度、金属离子的水解会影响络合掩蔽。 D: 掩蔽剂的用量、温度也影响络合掩蔽。
- 利用掩蔽剂来（）干扰离子的浓度，使之不与EDTA或指示剂络合，这种方法称掩蔽法。 A: 降低 B: 升高 C: 不改变
内容
- 0
在络合滴定中，当存在干扰离子时，一般优先使用（ ）。 A: 沉淀掩蔽法 B: 离子交换法分离 C: 络合掩蔽法 D: 氧化还原掩蔽法
- 1
欲用EDTA溶液滴定金属离子M和N混合溶液中的M,已知N对M的滴定产生干扰,今在某一pH下,加入掩蔽剂A,当aN(A)>>KNY时,说明A的掩蔽效果差。( )
- 2
利用掩蔽剂来（）干扰离子的浓度，使之不与EDTA或指示剂络合，这种方法称掩蔽法。 A: A降低 B: B升高 C: C不改变
- 3
沉淀掩蔽剂与干扰离子生成的沉淀的（）要小，否则掩蔽效果不好。
- 4
沉淀掩蔽剂与干扰离子生成的沉淀的( )要小，否则掩蔽效果不好