常用的掩蔽干扰离子的办法有哪些？配位掩蔽剂应具备什么条件？
举一反三
- 络合掩蔽剂和沉淀掩蔽剂各应具备什么条件？
- 配位滴定法中利用掩蔽剂掩蔽杂质离子的方法有（）、（）和（）。
- 配位掩蔽剂与干扰离子形成配合物的稳定性必须（）EDTA与该离子形成配合物的稳定性。 配位掩蔽剂与干扰离子形成配合物的稳定性必须（）EDTA与该离子形成配合物的稳定性。
- 在配位滴定中，对配位掩蔽剂的要求有（）。 A: A干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的 B: B干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小 C: C掩蔽剂应不与被测离子配位，或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性 D: D滴定要求的pH范围内，具有很强的掩蔽能力
- 在配位滴定中,常用控制溶液酸度和掩蔽干扰离子的方法提高配位滴定的选择性