在W10的乳状液中，分散相是（） A: W B: O C: W和O D: 都不是
在W10的乳状液中，分散相是（） A: W B: O C: W和O D: 都不是
磨料中的微粉用“W”表示,如W10、W15等,数字越大,磨料越细。
磨料中的微粉用“W”表示,如W10、W15等,数字越大,磨料越细。
磨料的公称尺寸为10～17μm的磨料的粒度号为（）。 A: W5 B: W7 C: W10 D: W14
磨料的公称尺寸为10～17μm的磨料的粒度号为（）。 A: W5 B: W7 C: W10 D: W14
低合金钢中合金元素总含量是（）。 A: W合≤5% B: W合=5%-10% C: W合≥10% D: W合≤10%
低合金钢中合金元素总含量是（）。 A: W合≤5% B: W合=5%-10% C: W合≥10% D: W合≤10%
磨料的公称尺寸为10~7um的磨料的粒度号为（）。 A: A、W5 B: B、W7 C: C、W10 D: D、W4
磨料的公称尺寸为10~7um的磨料的粒度号为（）。 A: A、W5 B: B、W7 C: C、W10 D: D、W4
在W10型乳状液中，水是分散相。
在W10型乳状液中，水是分散相。
电子元器件一般用的内热式电烙铁进行焊接（） A: 5～10 W B: 10～15 W C: 20～30 W
电子元器件一般用的内热式电烙铁进行焊接（） A: 5～10 W B: 10～15 W C: 20～30 W
406 MHz EPIRB发射功率为____。（ ）。 A: 5 W B: 1 W C: 25 W D: 10 W
406 MHz EPIRB发射功率为____。（ ）。 A: 5 W B: 1 W C: 25 W D: 10 W
设W为样本空间，A,B,C是W中的事件，W=1,2,…,10， A=
设W为样本空间，A,B,C是W中的事件，W=1,2,…,10， A=
对于二阶系统（ ）。 A: w<0.3wn段，j(w)较大，且与w近似线性；A(w)变化较大，用于测试时，波形失真很小 B: w<0.3wn段，j(w)较小，且与w近似线性；A(w)变化超过10%，用于测试时，波形失真很大 C: ．w<0.3wn段，j(w)较大，且与w非近似线性；A(w)变化不超过10%，用于测试时，波形失真很小 D: .w<0.3wn段，j(w)较小，且与w近似线性；A(w)变化不超过10%，用于测试时，波形失真很小
对于二阶系统（ ）。 A: w<0.3wn段，j(w)较大，且与w近似线性；A(w)变化较大，用于测试时，波形失真很小 B: w<0.3wn段，j(w)较小，且与w近似线性；A(w)变化超过10%，用于测试时，波形失真很大 C: ．w<0.3wn段，j(w)较大，且与w非近似线性；A(w)变化不超过10%，用于测试时，波形失真很小 D: .w<0.3wn段，j(w)较小，且与w近似线性；A(w)变化不超过10%，用于测试时，波形失真很小