RCA常用的几种清洗液包括 A: SC-1 B: SC-2 C: SC-3 D: DHF

能够去除金属离子的清洗液是: A: SC-1 B: SC-2 C: SC-3 D: DHF

RCA标准清洗需要使用的清洗液有（）。 A: SC-1 B: SC-2 C: SC-3 D: DHF

去除硅片表面的氧化层常常采用的清洗液是: A: SC-1 B: SC-2 C: SC-3 D: DHF

DHF清洗液主要用于去除硅片表面的 A: 金属离子 B: 颗粒 C: 有机残余物 D: 自然氧化物

RCA标准清洗法是最普遍采用的一种湿法清洗法，该法主要包括SC-1、SC-2、SC-3和DHF四种清洗液。

已知如图在△ABC中,D、F、E分别是各边中点,,AH是边BC上的高。求证：∠DHF=∠DEF               ．[img=113x90]17e574c5a470af1.jfif[/img][br][/br]

下列物质中，分子之间不存在氢键的是（）。 A: AC₂H₅OH； B: BCH₄； C: CH₂O； D: DHF。

不能使用催化剂转化法净化的气态污染物是（） A: ASO₂、HC化合物 B: BNO_x、HC化合物 C: CCO、HC化合物 D: DHF、HC化合物

在SF[sub]6[/]气体分解产物中，对皮肤、粘膜有强烈刺激作用的气体是（）。 A: AS₂F10； B: BSF₄； C: CS₂F₂； D: DHF。