公式变形：（1）已知U＝(U≠0)，求k；(2)已知U＝(U≠0)，求t．

用衰减曲线进行PID整定时，需要设置( )。 A: TI=∞，TD=∞ B: TI=0，TD=0 C: TI=∞，TD=0 D: TI=0，TD=∞

当积分时间Ti、微分时间TD如何变化时，PID控制规律变为纯比例P控制规律。 A: Ti=0、TD=∞ B: Ti=∞、TD=0 C: Ti=0、TD=0 D: Ti=∞、TD=∞

设总体X~N(μ,σ2),(X1, X2,…, Xn)为来自总体X的一个样本。当方差σ2已知时,作假设检验H0:μ=μ0 , H1:μ<μ0,则在α水平下,其拒绝域为: A: .(-Uα/2, Uα/2) B: (-∞, -Uα) C: (Uα, +∞) D: (-∞, -Uα/2)∪(Uα/2,+∞)

随机变量X~U(-a,a)，a>;0，则Y=|X|的概率分布为 A: Y~U(0,a) B: Y~U(0,2a) C: Y~U(0,a/2) D: Y~U(0,1)

（2）反应C（石墨）＋（1/2）O2（g）=CO（g），ΔrHmӨ(298K)<0，若将此反应放入一个恒容绝热容器中进行，则体系（） A: ΔT<0,ΔU<0,ΔH<0 B: ΔT>0，ΔU=0，ΔH>0 C: ΔT>0，ΔU>0，ΔH>0 D: ΔT>0，ΔU=0，ΔH=0

【判断题】设 X ~ U(0, 1), Y ~ U(0, 1),且 X,Y 独立,则 X + Y ~ U(0, 2). A. 对 B. 错

2 mol H2和 2 mol Cl2在绝热钢瓶内反应生成 HCl 气体，起始时为常温常压。以钢瓶内为系统，则： A: ΔU = 0，ΔH = 0，ΔS > 0，ΔG < 0 B: ΔU < 0，ΔH < 0，ΔS > 0，ΔG < 0 C: ΔU = 0，ΔH > 0，ΔS > 0，ΔG < 0 D: ΔU > 0，ΔH > 0，ΔS = 0，ΔG > 0

设随机过程X(t)=At+B, -∞＜t＜∞. 其中随机变量A与B独立同服从区间(0, 2)上均匀分布. 则以下选项正确的有（ ）. A: X(1)-X(0)~U(0, 2). B: X(1)~U(0, 4). C: X(2)-X(1)与X(0)同分布. D: X(0)~U(0, 2).

设U～N(0，1)，若c＞0，则有()。 A: P(U＜2c)=2Ф(c) B: P(U=0)=0.5 C: P(U＜-c)=P(U＞c) D: P(2U＜0)=0.5 E: P(U＞c)＜0.5