根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为光学光刻法,电子束光刻法,离子束光刻法和X射线光刻法。
举一反三
- 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻
- 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻
- 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻
- 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻
- 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻