根据曝光时所用的光源不同，光刻可分为光学光刻法，电子束光刻法，离子束光刻法和X射线光刻法。
对
举一反三
- 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻
- 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻
- 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻
- 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻
- 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻
内容
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根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻
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根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻
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根据曝光时所用的光源不同，光刻可分为。 A: 光学光刻法 B: 电子束光刻法 C: 离子束光刻法 D: X射线光刻法
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中国大学MOOC: 根据曝光时所用的光源不同，光刻可分为光学光刻法，电子束光刻法，离子束光刻法和X射线光刻法。
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以下各种光刻技术中，不属于非光学曝光的是 A: 电子束光刻 B: 离子束光刻 C: X射线光刻 D: 浸润式光刻